上海MSDP單極脈沖磁控濺射電源

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發(fā)布日期：2020-10-21 09:43:33

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產(chǎn)品概述
性能特點
技術(shù)參數(shù)

主要型號：

型號	功率 (kW)	最大工作電流(A)	外形尺寸	冷卻方式	空載電壓 (V)	工作電壓 (V)
MSDP-10k	10	12.5	1單元	風冷	1000	200~800V
MSDP-20k	20	25	1單元
MSDP-30k	30	37.5	2單元
MSDP-40k	40	50	2單元

主要特點：
A 明顯改善靶面電荷積累現(xiàn)象，減小濺射表面的打火次數(shù)，提高膜層質(zhì)量。
B 具有平均電源穩(wěn)定功能，具有理想的電壓陡降特性，
充分滿足磁控濺射工藝過程的連續(xù)性。
C 空載電壓≥1000V，工作電壓200~800V。
D 頻率40kHz，占空比20%~80%。
E 可選擇手動控制/模擬量接口控制，可選配RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈寬調(diào)制技術(shù)，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關(guān)器件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩(wěn)定可靠，生產(chǎn)工藝嚴格完善。
該系列產(chǎn)品采用先進的DSP控制系統(tǒng)，充分保證鍍膜工藝的重復(fù)性，
并且具有抑制靶材弧光放電及抗短路功能，
具有極佳的負載匹配能力，既保證了靶面清洗工藝的穩(wěn)定性，又提高了靶面清洗速度；
主要參數(shù)均可大范圍連續(xù)調(diào)節(jié)；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現(xiàn)自動化控制。

主要用途：

單極脈沖磁控濺射適用于金屬、合金及石墨等靶材鍍制金屬膜、碳膜和部分氧化物、氮化物及碳化物膜。

鏡片在接受鍍膜前必須進行預(yù)清洗，這種清洗要求很高，達到分子級。在清洗槽中分別放置各種清洗液，并采用超聲波加強清洗效果，當鏡片清洗完后，放進真空艙內(nèi)，在此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表面。最后的清洗是在真空艙內(nèi)，在此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表面。最后的清洗是在真空艙內(nèi)鍍前進行的，放置在真空艙內(nèi)的離子槍將轟擊鏡片的表面（例如用氬離子），完成此道清洗工序后即進行減反射膜的鍍膜。

真空鍍膜電源為什么在現(xiàn)在會應(yīng)用那么多呢，有哪些明顯的效果？

真空鍍膜電源

概念的區(qū)別：

1、真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬、半導(dǎo)體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

2、光學(xué)鍍膜是指在光學(xué)零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質(zhì))薄膜的工藝過程。在光學(xué)零件表面鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學(xué)鍍膜。