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真空鍍膜電源

真空鍍膜應(yīng)用的主要方法

2024-02-08 13:45:09

真空鍍膜應(yīng)用,簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)就是指在真空環(huán)境下,利用蒸發(fā)、濺射以及后續(xù)的冷凝等方法,在金屬、玻璃、陶瓷、半導(dǎo)體、塑料件等物體上沉積金屬薄膜或涂層。真空鍍膜應(yīng)用與傳統(tǒng)鍍膜方法相比,屬于干式鍍膜方法,其主要方法有以下幾種:

真空蒸發(fā)鍍膜

原理是用蒸發(fā)器在真空條件下加熱蒸發(fā)的物質(zhì),使其蒸發(fā)或升華。蒸發(fā)的離子流直接指向襯底,在襯底上沉積固體薄膜。

濺射沉積

濺射鍍膜是在真空條件下,對(duì)陰極施加2000V的高壓激發(fā)輝光放電的過(guò)程。帶正電的氬離子與陰極碰撞,使其釋放出原子,這些原子隨后在惰性氣氛中沉積在襯底上,形成一層薄膜。

離子涂層

干式螺桿泵生產(chǎn)廠家已經(jīng)推出了真空離子鍍膜。它是在上述兩種真空鍍膜技術(shù)的基礎(chǔ)上,結(jié)合了兩者的工藝特點(diǎn)而發(fā)展起來(lái)的。在真空條件下,用氣體放電使工作氣體或蒸發(fā)物質(zhì)(膜材料)部分電離,在離子轟擊下,蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)物沉積在襯底表面。在膜的形成過(guò)程中,基底總是受到高能粒子的轟擊,使其非常干凈。

真空繞組鍍膜

真空纏繞鍍膜是一種利用物理氣相沉積對(duì)柔性基材進(jìn)行連續(xù)鍍膜的技術(shù),以達(dá)到柔性基材的某些功能和裝飾性能。


真空離子鍍膜

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