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真空鍍膜設(shè)備的鍍膜工藝有很多。簡單來說，就是利用蒸發(fā)、濺射等方法，在真空環(huán)境下發(fā)射薄膜顆粒，將其沉積在金屬、玻璃、陶瓷、半導(dǎo)體、塑料件等物體上，形成客戶需要的各種涂層。在日常生活中較為常見的技術(shù)有真空蒸發(fā)、濺射鍍膜、離子鍍膜等
真空蒸發(fā)鍍膜:原理是用蒸發(fā)器在真空條件下加熱薄膜材料，使其汽化或升華。蒸發(fā)的粒子流直接指向基材，在基材上沉積固體薄膜。蒸發(fā)又可分為電子束蒸發(fā)、電阻蒸發(fā)、感應(yīng)蒸發(fā)等
濺射鍍膜:在真空條件下，對陰極施加高壓電激發(fā)輝光放電，帶正電的氬離子與陰極靶材碰撞，使其射出薄膜顆粒，沉積在基材上，形成薄膜層。
離子涂層:離子涂層通常是指在涂層過程中產(chǎn)生大量離子的涂層方法。在膜的形成過程中，基底不斷受到高能粒子的轟擊，膜層的強(qiáng)度和附著力非常強(qiáng)。當(dāng)離子鍍用于生產(chǎn)高精度膜層時，可以過濾掉大顆粒離子，從而獲得高結(jié)構(gòu)、高密度的膜層。
日常生活中較常用的鍍膜技術(shù)就是這三種真空鍍膜設(shè)備。具體選擇取決于要涂覆的膜層類型、要涂覆的工件類型等。
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