主要型號：

主要特點(diǎn)：
   A具有行動穩(wěn)定電壓功能，具有理想的電壓陡降特性，
有效抑制工件表面打火，明顯提高鍍件的成品率、表面光潔度和膜層結(jié)合力。
   B 電壓脈沖輸出峰值可達(dá)3500V。
   C 頻率1k~2kHz，占空比1%~5%(最 大脈沖寬度25uS)。
   D 可選擇手動控制/模擬量接口控制，可選配RS485通訊接口。
采用先進(jìn)的PWM脈寬調(diào)制技術(shù)，使用進(jìn)口IGBT或MOSFET作為功率開關(guān)器件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩(wěn)定可靠，生產(chǎn)工藝嚴(yán)格完善。
該系列產(chǎn)品采用先進(jìn)的DSP控制系統(tǒng)，充分保證鍍膜工藝的重復(fù)性，
并且具有抑制靶材弧光放電及抗短路功能，
具有極佳的負(fù)載匹配能力，既保證了靶面清洗工藝的穩(wěn)定性，又提高了靶面清洗速度；
主要參數(shù)均可大范圍連續(xù)調(diào)節(jié)；
方便維護(hù)，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴(kuò)展功能，方便實現(xiàn)自動化控制。

主要用途：

高壓窄脈沖電源適用于特殊鍍膜工藝時被鍍工件表面的輝光清洗、鍍膜前的離子轟擊和鍍膜時的離子加速等。

社會不斷發(fā)展，技術(shù)也是不斷得在創(chuàng)新。真空鍍膜電源的運(yùn)用范圍是越來越廣泛了，真空鍍膜技術(shù)是一種新穎的材料合成與加工的新技術(shù)，是表面工程技術(shù)領(lǐng)域的重要組成部分。隨著全球制造業(yè)高速發(fā)展，真空鍍膜技術(shù)應(yīng)用越來越廣泛。從半導(dǎo)體集成電路、LED、顯示器、觸摸屏、太陽能光伏、化工、制藥等行業(yè)的發(fā)展來看，對真空鍍膜設(shè)備、技術(shù)材料需求都在不斷增加，包括制造大規(guī)模集成電路的電學(xué)膜；數(shù)字式縱向與橫向均可磁化的數(shù)據(jù)記錄儲存膜；充分展示和應(yīng)用各種光學(xué)特性的光學(xué)膜；計算機(jī)顯示用的感光膜；TFT、PDP平面顯示器上的導(dǎo)電膜和增透膜；建筑、汽車行業(yè)上應(yīng)用的玻璃鍍膜和裝飾膜；包裝領(lǐng)域用防護(hù)膜、阻隔膜；裝飾材料上具體各種功能裝飾效果的功能膜；工、模具表面上應(yīng)用的耐磨超硬膜；納米材料研究方面的各種功能性薄膜等。對于國內(nèi)真空鍍膜設(shè)備制造企業(yè)發(fā)展建議如下：

1、目前實體經(jīng)濟(jì)走勢整體疲弱，復(fù)蘇充滿不確定性，經(jīng)濟(jì)處于繼續(xù)探底過程，真空鍍膜設(shè)備制造企業(yè)應(yīng)著力進(jìn)行產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)優(yōu)化升級，重質(zhì)量、重服務(wù)明確市場定位，大力研發(fā)擁有自主知識產(chǎn)權(quán)的新產(chǎn)品新工藝，提高產(chǎn)品質(zhì)量和服務(wù)水平。

2、依托信息化發(fā)展趨勢，堅持“以信息化帶動工業(yè)化，以工業(yè)化促進(jìn)信息化”，走出一條科技含量高、經(jīng)濟(jì)效益好、資源消耗低、環(huán)境污染少、人力資源優(yōu)勢得到充分發(fā)揮的新型工業(yè)化路子。

3、依托政府支持，大力加強(qiáng)與擁有行業(yè)先進(jìn)技術(shù)和工藝水平的科研院所、大型企業(yè)、高校合作，使得新品能迅速推向市場。

真空鍍膜技術(shù)及設(shè)備擁有十分廣闊的應(yīng)用領(lǐng)域和發(fā)展前景。未來真空鍍膜設(shè)備行業(yè)等制造業(yè)將以信息化融合為重心，依靠技術(shù)進(jìn)步，更加注重技術(shù)能力積累，制造偏向服務(wù)型，向世界真空鍍膜設(shè)備行業(yè)等制造業(yè)價值鏈高端挺進(jìn)。