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主要型號(hào):
型號(hào) | 功率(W) | 工作電壓(V) | 蕞大峰值電流(A) | 外形尺寸 | 冷卻方式 |
MS-10A | 400W | -40~+40 | -10~+10 | 482*175*550 (WHD)[4U] | 風(fēng)冷 |
MS-20A | 800W | -40~+40 | -20~+20 | ||
MS-30A | 1200W | -40~+40 | -30~+30 |
主要特點(diǎn):
A 可選擇三角波、矩形波、正弦波三種波形,波形的蕞高值和蕞低值可獨(dú)立設(shè)置。
B輸出電壓范圍:-40V~+40V。
C波形頻率范圍:0.1-50Hz
D三角波、矩形波占空比10%~90%
E 可選擇手動(dòng)控制/模擬量接口控制,可選配RS485通訊接口。
采用先進(jìn)的PWM脈寬調(diào)制技術(shù),使用進(jìn)口IGBT或MOSFET作為功率開關(guān)器件,
體積小、重量輕、功能全、性能穩(wěn)定可靠,生產(chǎn)工藝嚴(yán)格完善。
該系列產(chǎn)品采用先進(jìn)的DSP控制系統(tǒng),充分保證鍍膜工藝的重復(fù)性,
并且具有抑制靶材弧光放電及抗短路功能,
具有極佳的負(fù)載匹配能力,既保證了靶面清洗工藝的穩(wěn)定性,又提高了靶面清洗速度;
主要參數(shù)均可大范圍連續(xù)調(diào)節(jié);
方便維護(hù),可靠性高;
PLC接口和RS485接口擴(kuò)展功能,方便實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化控制。
主要用途:
MS系列勵(lì)磁多波形電源選擇多種電壓波形輸出。通過驅(qū)動(dòng)多弧靶外圍磁場(chǎng)線圈,產(chǎn)生周期性可變磁磁場(chǎng),使多弧輝光由原來的集中放電變?yōu)榫鶆蚍烹?,提高工件膜層質(zhì)量
在真空鍍膜時(shí),使用直流負(fù)偏壓電源,其中運(yùn)用直流電源,這個(gè)電源的電子方向一直統(tǒng)一,會(huì)導(dǎo)致單一品種電荷堆積過高與控制源中和。也就是說用來提供動(dòng)力的正負(fù)極被中和了。然后磁控濺射將不再持續(xù)。所以選用脈沖電源。真空鍍膜一種由物理辦法發(fā)生薄膜資料的技能。在真空室內(nèi)資料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的外表上。此項(xiàng)技能樶先用于出產(chǎn)光學(xué)鏡片,如航海望遠(yuǎn)鏡鏡片等。后延伸到其他功用薄膜,唱片鍍鋁、裝修鍍膜和資料外表改性等。如手表外殼鍍仿金色,機(jī)械刀具鍍膜,改變加工紅硬性。真空鍍膜是一種由物理方法產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù),在真空室內(nèi)材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。
(1)在真空鍍膜機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)正常情況下,開動(dòng)真空鍍膜機(jī)時(shí),必須先開水管,工作中應(yīng)隨時(shí)注意水壓。
(2)在離子轟擊和蒸發(fā)時(shí),應(yīng)特別注意高壓電線接頭,不得觸動(dòng),以防觸電。
(3)在用電子槍鍍膜時(shí),應(yīng)在鐘罩外圍上鋁板。觀察窗的玻璃樶好用鉛玻璃,觀察時(shí)應(yīng)戴上鉛玻璃眼鏡,以防X射線侵害人體。
(4)鍍制多層介質(zhì)膜的鍍膜間,應(yīng)安裝通風(fēng)吸塵裝置,及時(shí)排除有害粉塵。
(5)易燃有毒物品要妥善保管,以防失火中毒。
(6)酸洗夾具應(yīng)在通風(fēng)裝置內(nèi)進(jìn)行,并要戴橡皮手套。
(7)把零件放入酸洗或堿洗槽中時(shí),應(yīng)輕拿輕放,不得碰撞及濺出。平時(shí)酸洗槽盆應(yīng)加蓋。
(8)工作完畢應(yīng)斷電、斷水。
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