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真空鍍膜有蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍膜三種形式:當(dāng)濺射鍍膜用高能粒子轟擊固體表面時(shí),可以獲得固體表面的粒子。能量從表面逸出并沉積在基板上;離子鍍蒸發(fā)物質(zhì)的分子通過電子撞擊被電離,并以離子的形式沉積在固體表面。
所有三種形式的真空鍍膜技術(shù)都需要快速冷卻裝置來(lái)輔助真空鍍膜過程。由于工件在鍍膜過程中處于封閉的真空環(huán)境中,真空設(shè)備失去了很多產(chǎn)品技術(shù)和性能?,F(xiàn)有的真空鍍膜設(shè)備也有冷卻裝置,但其冷卻效果不是很理想。
不能滿足人們的需要,為彌補(bǔ)現(xiàn)有技術(shù)的不足,真空鍍膜電源廠家提供一種真空鍍膜設(shè)備手套箱蒸發(fā)一體機(jī)。該系統(tǒng)集成了真空鍍膜系統(tǒng)和手套箱系統(tǒng),可在高真空蒸發(fā)室中完成薄膜蒸發(fā)。樣品在手套箱中的高純度惰性氣體氣氛下蒸發(fā)后儲(chǔ)存、制備和測(cè)試。為保證涂層產(chǎn)品工藝和性能質(zhì)量要求而設(shè)置的快速冷卻系統(tǒng),可實(shí)現(xiàn)快速冷卻自動(dòng)控制的目的。
蒸發(fā)鍍膜與手套箱相結(jié)合,實(shí)現(xiàn)了蒸發(fā)、封裝、測(cè)試等過程的全封閉生產(chǎn),使整個(gè)薄膜生長(zhǎng)和器件制備過程高度集成在一個(gè)環(huán)境氣氛可控的完整系統(tǒng)中,無(wú)需有機(jī)大-區(qū)域電路準(zhǔn)備。大氣環(huán)境中不穩(wěn)定因素的影響,保證了高性能、大面積有機(jī)光電器件和電路的制備。
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