主要型號：

主要特點：
   A 采用先進的電流型開關(guān)電源技術(shù)，減小輸出儲能元件，
同時提高了抑制打火及重啟速度，應(yīng)用在鋁靶鍍膜優(yōu)勢更為明顯。
   B 具備恒流/恒功率模式可選。恒功率模式相對于傳統(tǒng)的恒流模式，
更能保證鍍膜工藝的重復性。
  C 具有理想的電壓陡降特性，自動識別偽打火現(xiàn)象，
充分滿足磁控濺射工藝過程的連續(xù)性。
  D 主要參數(shù)可大范圍調(diào)節(jié)
  E 可選擇手動控制/模擬量接口控制，可選配RS485通訊接口。
  F 采用進口大功率IGBT&MOS模塊
采用先進的PWM脈寬調(diào)制技術(shù)，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關(guān)器件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩(wěn)定可靠，生產(chǎn)工藝嚴格完善。
該系列產(chǎn)品采用先進的DSP控制系統(tǒng)，充分保證鍍膜工藝的重復性，
并且具有抑制靶材弧光放電及抗短路功能，
具有極佳的負載匹配能力，既保證了靶面清洗工藝的穩(wěn)定性，又提高了靶面清洗速度；
主要參數(shù)均可大范圍連續(xù)調(diào)節(jié)；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現(xiàn)自動化控制。

主要用途：

直流磁控濺射用于鍍制各種金屬

在電子科技快速發(fā)展的時代中，電源的應(yīng)用可以說是隨處可見的，或許正是因為電源的普遍應(yīng)用，所以電源的類型也隨之而多樣。真空鍍膜電源是眾多電源類型中的一種，這種電源與普通的電源有一定的區(qū)別，單是電源的外觀就有明顯的不同。

     真空鍍膜機光學鍍膜加工上有什么要注意的嗎？當光線進入不同傳遞物質(zhì)時（如由空氣進入玻璃），大約有5%會被反射掉，在光學瞄準鏡中有許多透鏡和折射鏡，整個加起來可以讓入射光線損失達30%至40%?，F(xiàn)代光學透鏡通常都鍍有單層或多層氟化鎂的增透膜，單層增透膜可使反射減少至1.5%，多層增透膜則可讓反射降低至0.25%，所以整個瞄準鏡如果加以適當鍍膜，光線透穿率可達95%。鍍了單層增透膜的鏡片通常是藍紫色或是紅色，鍍多層增透膜的鏡片則呈淡綠色或暗紫色。

真空鍍膜機增透膜增加透射光強度的實質(zhì)是作為電磁波的光波在傳播的過程中，在不同介質(zhì)的分界面上，由于邊界條件的不同，改變了其能量的分布。對于單層薄膜來說，當增透膜兩邊介質(zhì)不同時，薄膜厚度為1/4波長的奇數(shù)倍且薄膜的折射率n=（n1*n2)^(1/2)時（分別是介質(zhì)1、2的折射率），才可以使入射光全部透過介質(zhì)。一般光學透鏡都是在空氣中使用，對于一般折射率在1.5左右的光學玻璃，為使單層膜達到100%的增透效果，可使n1=1.23，或接近1.23；還要使增透薄膜的厚度=（2k+1)倍四分之一個波長。單層膜只對某一特定波長的電磁波增透，為使在更大范圍內(nèi)和更多波長實現(xiàn)增透，人們利用鍍多層膜來實現(xiàn)。

人們對增透膜的利用有了很多的經(jīng)驗，發(fā)現(xiàn)了不少可以作為增透膜的材料；同時也掌握了不少先進的鍍膜技術(shù)，因此增透膜的應(yīng)用涉及醫(yī)學、軍事、太空探索等各行各業(yè)，為人類科技進步作出了重大貢獻。