主要型號:
型號 | 功率(kW) | 蕞大工作 電流(A) | 外形尺寸 | 冷卻方式 | 空載電壓(V) | 工作電壓(V) |
MSD-10k | 10 | 12.5 | 1單元 | 風冷 480*243*565 (WHD)(3U) | 1000 | 150~800V |
MSD-20k | 20 | 25 | 1單元 | |||
MSD-30k | 30 | 37.5 | 2單元 | |||
MSD-40k | 40 | 50 | 2單元 | |||
MSD-20k | 20 | 25 | 1單元 | 風水冷 480*280*580 (WHD)(3U) | 1000 | 150~800V |
MSD-30k | 30 | 37.5 | 1單元 | |||
MSD-40k | 40 | 50 | 1單元 | |||
MSD-60k | 60 | 75 | 2單元 | |||
MSD-80k | 80 | 100 | 2單元 | |||
MSD-100k | 100 | 125 | 3單元 | |||
MSD-120k | 120 | 150 | 3單元 |
主要特點:
A 采用先進的電流型開關電源技術,減小輸出儲能元件,
同時提高了抑制打火及重啟速度,應用在鋁靶鍍膜優(yōu)勢更為明顯。
B 具備恒流/恒功率模式可選。恒功率模式相對于傳統(tǒng)的恒流模式,
更能保證鍍膜工藝的重復性。
C 具有理想的電壓陡降特性,自動識別偽打火現(xiàn)象,
充分滿足磁控濺射工藝過程的連續(xù)性。
D 主要參數(shù)可大范圍調節(jié)
E 可選擇手動控制/模擬量接口控制,可選配RS485通訊接口。
F 采用進口大功率IGBT&MOS模塊
采用先進的PWM脈寬調制技術,使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件,
體積小、重量輕、功能全、性能穩(wěn)定可靠,生產工藝嚴格完善。
該系列產品采用先進的DSP控制系統(tǒng),充分保證鍍膜工藝的重復性,
并且具有抑制靶材弧光放電及抗短路功能,
具有極佳的負載匹配能力,既保證了靶面清洗工藝的穩(wěn)定性,又提高了靶面清洗速度;
主要參數(shù)均可大范圍連續(xù)調節(jié);
方便維護,可靠性高;
PLC接口和RS485接口擴展功能,方便實現(xiàn)自動化控制。
主要用途:
直流磁控濺射用于鍍制各種金屬
在電子科技快速發(fā)展的時代中,電源的應用可以說是隨處可見的,或許正是因為電源的普遍應用,所以電源的類型也隨之而多樣。真空鍍膜電源是眾多電源類型中的一種,這種電源與普通的電源有一定的區(qū)別,單是電源的外觀就有明顯的不同。
真空鍍膜機光學鍍膜加工上有什么要注意的嗎?當光線進入不同傳遞物質時(如由空氣進入玻璃),大約有5%會被反射掉,在光學瞄準鏡中有許多透鏡和折射鏡,整個加起來可以讓入射光線損失達30%至40%?,F(xiàn)代光學透鏡通常都鍍有單層或多層氟化鎂的增透膜,單層增透膜可使反射減少至1.5%,多層增透膜則可讓反射降低至0.25%,所以整個瞄準鏡如果加以適當鍍膜,光線透穿率可達95%。鍍了單層增透膜的鏡片通常是藍紫色或是紅色,鍍多層增透膜的鏡片則呈淡綠色或暗紫色。
真空鍍膜機增透膜增加透射光強度的實質是作為電磁波的光波在傳播的過程中,在不同介質的分界面上,由于邊界條件的不同,改變了其能量的分布。對于單層薄膜來說,當增透膜兩邊介質不同時,薄膜厚度為1/4波長的奇數(shù)倍且薄膜的折射率n=(n1*n2)^(1/2)時(分別是介質1、2的折射率),才可以使入射光全部透過介質。一般光學透鏡都是在空氣中使用,對于一般折射率在1.5左右的光學玻璃,為使單層膜達到100%的增透效果,可使n1=1.23,或接近1.23;還要使增透薄膜的厚度=(2k+1)倍四分之一個波長。單層膜只對某一特定波長的電磁波增透,為使在更大范圍內和更多波長實現(xiàn)增透,人們利用鍍多層膜來實現(xiàn)。
人們對增透膜的利用有了很多的經驗,發(fā)現(xiàn)了不少可以作為增透膜的材料;同時也掌握了不少先進的鍍膜技術,因此增透膜的應用涉及醫(yī)學、軍事、太空探索等各行各業(yè),為人類科技進步作出了重大貢獻。
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