188-0259-9203（微信同號）
841426141@qq.com
離子源電源理想的磁場設(shè)計體現(xiàn)為：一方面盡可能擴大磁場橫向分量的面積與強度，另一方面樶大程度的控制和限制弧斑的運動。由于工具鍍膜持續(xù)時間較長，對膜層的性能要求較高，工業(yè)應(yīng)用的離子鍍弧源應(yīng)具備以下幾點特性：(1)放電穩(wěn)定，不經(jīng)常滅弧；(2)弧斑運動約束合理，不跑弧；(3)靶材利用率高；(4)弧斑細(xì)膩，放電功率密度小，大顆粒少；(5)等離子體密度以及離化率高，向工件輸運的等離子體通量足夠。
真空鍍膜電源技術(shù)的離子源電源：提高工具、模具的加工質(zhì)量和使用壽命一直是人們不斷探索的課題。電弧離子鍍技術(shù)是一種工模具材料表面改性技術(shù)，具有離化率高、可低溫沉積、膜層質(zhì)量好以及沉積速率快等其他鍍膜方式所不具備的優(yōu)勢，已在現(xiàn)代工具以及各種模具的表面防護(hù)取得了理想的應(yīng)用效果。但是，電弧放電導(dǎo)致的大顆粒存在限制了工模具涂層技術(shù)的進(jìn)一步應(yīng)用，也成為后期電弧離子鍍技術(shù)發(fā)展的主要論題。
離子鍍弧源是電弧等離子體放電的源頭，是離子鍍技術(shù)的關(guān)鍵部件。電弧離子鍍采用的弧源是冷陰極弧源，這種弧源中電弧的行為被陰極表面許多快速游動、高度明亮的陰極斑點所控制。在發(fā)展和完善電弧離子鍍技術(shù)的過程中，對電弧陰極斑點運動的有效控制至關(guān)重要，因為這決定了電弧放電的穩(wěn)定性、陰極靶材的有效利用、大顆粒的去除、薄膜質(zhì)量的改善等諸多關(guān)鍵問題的解決。國內(nèi)外一直致力于這方面的工作，研究熱點主要集中在磁場控制的弧源設(shè)計上。由于真空鍍膜電源電弧的物理特性，外加電磁場是控制弧斑運動的有效方法，目前所有的磁場設(shè)計都是考慮在靶面形成一定的磁場位形，利用銳角法則限制弧斑的運動軌跡，利用橫向分量提高弧斑的運動速度。
手機：18802599203（劉小姐）
微信號：18802599203
郵箱：841426141@qq.com
地址：中山市石岐區(qū)海景工業(yè)區(qū)3、4、5號(4號樓3-4樓)
手機瀏覽
您的位置：
