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真空鍍膜電源

離子源電源的用途

2024-06-01 15:00:51
次

離子源電源主要利用離子氣體轟擊基材，較好地清洗基材表面的油漬，增強涂層后的附著力。隨著市場對產(chǎn)品質(zhì)量的要求越來越高，真空鍍膜廠家也想出了各種方法來提高產(chǎn)品質(zhì)量，以滿足客戶的檢測要求。離子源電源旨在從生產(chǎn)源頭控制質(zhì)量。


在真空鍍膜的生產(chǎn)過程中，鍍膜前要對基材進行清洗，否則看不見的污垢會造成鍍膜后顏色不均勻。較為常用的方法是超聲波清洗。但它不同于離子源電源產(chǎn)生的離子氣轟擊清洗。在真空狀態(tài)下，離子氣體在電場的作用下高速運動，在襯底表面產(chǎn)生物理碰撞，離子氣體的能量足以去除各種污染物。離子源電源近兩年來逐漸被真空鍍膜廠家所接受。

離子源電源

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