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真空鍍膜電源

關(guān)于真空離子鍍膜的作用

2020-07-25 00:00:00
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真空鍍膜電源廠(chǎng)家的在真空離子鍍膜中，尤其對(duì)于多弧離子鍍膜，無(wú)論是裝飾鍍還是工具鍍，轟偏電源的好壞對(duì)于成膜質(zhì)量都起著非常關(guān)鍵的作用。裝飾鍍和工具鍍對(duì)膜層質(zhì)量的要求有相同之處又各有側(cè)重。

離子源電源

離子鍍是真空室中，利用氣體放電或被蒸發(fā)物質(zhì)部分離化，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)粒子轟擊作用的同時(shí)，將蒸發(fā)物或反應(yīng)物沉積在基片上。離子鍍把 輝光放電現(xiàn)象、 等離子體技術(shù)和真空蒸發(fā)三者有機(jī)結(jié)合起來(lái)，不僅能明顯地改進(jìn)了膜質(zhì)量，而且還擴(kuò)大了薄膜的應(yīng)用范圍。多弧電源其優(yōu)點(diǎn)是薄膜 附著力強(qiáng)，繞射性好，膜材廣泛等。D.M.首次提出離子鍍?cè)?，起工作過(guò)程是：


先將真空室抽至4×10（-3）帕以上的真空度，再接通高壓電源，在蒸發(fā)源與基片之間建立一個(gè)低壓氣體放電的 低溫等離子區(qū)。基片電極接上5KV直流負(fù)高壓，從而形成光放電陰極。輝光放電去產(chǎn)生的惰性氣體離子進(jìn)入陰極暗區(qū)被電場(chǎng)加速并轟擊基片表面，對(duì)其進(jìn)行清洗。然后計(jì)入鍍膜過(guò)程，加熱使鍍料氣化，起原子進(jìn)入等離子區(qū)，與惰性氣體離子及電子發(fā)生碰撞，少部分產(chǎn)生離化。離化后的例子及氣體離子以較高能量轟擊鍍層表面，致使膜層質(zhì)量得到改善。


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離子源電源真空鍍膜電源廠(chǎng)家大功率開(kāi)關(guān)電源廠(chǎng)家
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