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說起單極脈沖磁控濺射電源，可能有點(diǎn)困惑，但我想說的是，它是對直流磁控濺射電源的升級，是不是突然明白了？脈沖磁控濺射是用矩形波電壓脈沖電源代替?zhèn)鹘y(tǒng)直流電源的一種方法。脈沖濺射可以有效地抑制電弧的產(chǎn)生，消除由此產(chǎn)生的薄膜缺陷，同時可以提高濺射的沉積速率，降低沉積溫度等一系列顯著優(yōu)點(diǎn)，是濺射絕緣材料沉積的精選工藝。一個周期有正電壓和負(fù)電壓兩個階段，在負(fù)電壓段中，電源作用于靶材的濺射，正電壓段將電子積累的正電荷引入靶材表面，使表面清潔，露出金屬表面。施加在靶材上的脈沖電壓與一般磁控濺射的脈沖電壓相同！對于400~500V，電源頻率在10~350KHz，在保證穩(wěn)定放電的前提下，應(yīng)盡可能低地取頻率#因?yàn)榈入x子體中的電子相對于離子具有更高的遷移率，所以正電壓值只需要是負(fù)電壓的10%到20%，就可以有效地中和積聚在靶表面的正電荷。占空比的選擇確保了濺射過程中靶表面積累的電荷在正電壓階段可以完全被中和，從而盡可能地提高占空比，以實(shí)現(xiàn)電源的較大效率。
單極脈沖磁控濺射電源的優(yōu)點(diǎn)是，它可以有效地抑制電弧的產(chǎn)生，消除由此產(chǎn)生的薄膜缺陷，同時可以提高濺射的沉積速率，降低沉積溫度等一系列顯著優(yōu)點(diǎn)，是沉積濺射絕緣材料的較佳工藝
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