1、概念差異

1. 真空鍍膜是指在高真空條件下加熱金屬或非金屬材料，使其在被鍍件(金屬、半導(dǎo)體或絕緣體)表面蒸發(fā)凝結(jié)形成薄膜的一種方法。如真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

2. 光學(xué)鍍膜是指在光學(xué)元件表面涂覆一層(或多層)金屬(或介電)薄膜的工藝。在光學(xué)元件表面涂膜的目的是為了減少或增加光的反射、分束、分色、過(guò)濾、偏振等要求。常用的包覆方法有真空包覆(物理包覆的一種)和化學(xué)包覆。

2、原則差異

1. 真空鍍膜是真空應(yīng)用的一個(gè)重要方面，它以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，吸收了電子束、分子束、離子束、等離子體束、射頻、磁控管等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供了薄膜制備的新工藝。簡(jiǎn)單地說(shuō)，就是在真空中蒸發(fā)或?yàn)R射金屬、合金或化合物以使其凝固并沉積在涂層物體(稱為基材、襯底或襯底)上的方法。

2. 光的干涉在薄膜光學(xué)中有著廣泛的應(yīng)用。光學(xué)薄膜技術(shù)常用的方法是通過(guò)真空濺射在玻璃基板上涂覆薄膜，一般用來(lái)控制基板對(duì)入射光束的反射率和透射率，以滿足不同的需要。為了消除光學(xué)元件表面的反射損失，提高成像質(zhì)量，在表面涂上一層或多層透明的介電膜，稱為抗反射膜或抗反射膜。

隨著激光技術(shù)的發(fā)展，對(duì)膜層的反射率和透射率有了不同的要求，促進(jìn)了多層高反射膜和寬帶增透膜的發(fā)展。為滿足各種應(yīng)用的需要，采用高反射膜制造偏光反射膜、彩色光譜膜、冷光膜、干涉濾光片等。光學(xué)元件表面涂覆后，光在膜層上多次反射透射，形成多束干涉。通過(guò)控制膜層的折射率和厚度，可以得到不同的光強(qiáng)分布，這是干涉鍍膜的基本原理。

3、方法和材料的差異

1. 真空鍍膜法

(1)真空蒸發(fā)鍍:將待鍍基材清洗干凈，放入鍍膜室。抽真空后，將薄膜材料加熱到高溫，使蒸氣達(dá)到約13.3Pa，使蒸氣分子飛到基片表面，凝結(jié)成薄膜。

(2)陰 極濺射鍍:將待鍍基材置于陰 極的對(duì)面，在真空室中引入惰性氣體(如氬氣)，保持壓力約1.33-13.3Pa，然后將陰 極接在2000V直流電源上刺激輝光放電。正氬離子撞擊陰 極，使其釋放出原子。濺落的原子通過(guò)惰性氣氛沉積在襯底上，形成薄膜。

(3)化學(xué)氣相沉積:通過(guò)對(duì)選定的金屬或有機(jī)化合物進(jìn)行熱分解得到沉積薄膜的過(guò)程。

(4)離子鍍:離子鍍本質(zhì)上是真空蒸發(fā)鍍和陰 極濺射鍍的有機(jī)結(jié)合，具有兩者的工藝特點(diǎn)。各種涂覆方式的優(yōu)缺點(diǎn)如表6-9所示。

2. 光學(xué)鍍膜方法用材料

(1)氟化鎂:純度高的無(wú)色四方結(jié)晶粉末，用于光學(xué)鍍膜，提高透光率，防止坍塌點(diǎn)。

(2)二氧化硅:無(wú)色透明晶體，熔點(diǎn)高，硬度高，化學(xué)穩(wěn)定性好。純度高，用于制備高品質(zhì)SiO2涂層，蒸發(fā)狀態(tài)好，無(wú)坍塌點(diǎn)。根據(jù)使用要求分為紫外線、紅外線和可見(jiàn)光。

(3)氧化鋯:白色重晶態(tài)，具有高折射率和耐高溫性能，化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，純度高。用于制備無(wú)坍塌點(diǎn)的高質(zhì)量氧化鋯涂層。